第76章 杰出的后起之秀(求追读)(3 / 4)

李暮这会儿已经快把资料看完了,闻言迅速定位要说的内容,整理一番后道:“离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料,叫做溅射;从固体材料表

面弹回,叫做散射;而在固体材料中停留下来,就叫离子注入。”

“它的主要作用,就是对半导体材料进行掺杂,改变导电性能、光学性质和晶格结构。”

他一边说,一边在小黑板上画图,方便下面的人理解。

等他说完,在场的专家教授们不由陷入一阵长久的沉默。

直到不知谁“啪啪”地带头鼓起掌,雷鸣般的掌声霎时响彻会场,经久不息。

这下李暮算是彻底在国内半导体界出了名。

……

研讨会一直到下午才结束。

集成电路的四项关键工艺理论,成为全场唯一的焦点。

以至于研讨会接下来的内容,俱是以他提出的四项工艺为主。

几乎所有专家和教授兴致勃勃地讨论着这套理论的可行性。

而作为提出者,少不了有人跑来找李暮询问。

一个来自辽省的专家看着李暮,目光满是欣赏,道:“少年有为啊,我在伱这个年纪时,连课本知识都没学明白,没想到你已经能举一反三,设计出最前沿的框架。”

“您过奖了。”李暮微微汗颜。

辽省专家继续道:“我们几个对你刚刚说的离子注入工艺还有点疑惑,你再解释解释?”

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