但是到了二十八纳米之下，芯片工艺计算的方式是‘半间距’，算出来的工艺是等效工艺，比如十四纳米工艺……这其实是等效工艺！而且不同的芯片代工厂因为工艺的差异或者营销的需求，往往会计算等效工艺的公式还不一样，很容易就让人迷惑了。

比如台积电七纳米和英特尔10纳米……这俩玩意虽然工艺不一样，称呼不一样，但实际上性能都差不多，可以简单粗暴的理解为同一技术水准的东西。

但是徐申学却是知道：台积电等效七纳米或英特尔等效十纳米工艺的话，其实已经可以满足绝大部分芯片的需求了……

只有最顶级的电脑CPU，显卡，手机SOC以及了未来的AI芯片，才会需要更低的等效五纳米，乃至等效三纳米，两纳米之类的工艺……而这些工艺就需要更先进的EUV光刻机了。

这东西人家国外也刚弄出来，一时半会的也买不到……更别说这玩意大概率因为技术封锁难以购买。

所以徐申学对此不抱有什么希望，先购买一大堆DUV浸润式光刻机再说……后续也尽可能的采购更先进的DUV浸润式光刻机，争取被制裁后，也能够独立搞出来等效七纳米左右的芯片。

有了这玩意后，那么后续可供腾挪转移的战略空间就比较大了，不至于让对方稍微卡个芯片代工就会翘辫子。

只要封锁不是太严厉，那么基本问题都不大，至少可以满足未来十多年的需求。

但是如果封锁的太严重，连这些光刻机都不让用，等到甚至连浸润式光刻机也采购不到，甚至连其他设备以及材料，比如光刻胶这些都被制裁了。

那么就需要备份计划里的另外一方案：自主研发半导体基础设备以及材料！

半导体备份计划里，徐申学是两条腿走路！

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数天后，徐申学再一次低调的出现在了深城的一家外资背景的公司里。

这就是徐申学低调投资的光刻机整合设计企业：海湾电子有限公司。