第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题(2 / 4)

1996年4月2日,bs拿到公开发行新股的额度,6月11日,在鹏城证券交易所公开发行了万股新股(其中1万股职工股,每股发行价6元,融资873亿元(扣除发行费用,其中8亿元用于研发8英寸晶圆和5n程工艺光刻机,73亿元用于补充公司流动资金。

当时bs研制的6英寸晶圆和8n程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长,研究院继续研发8英寸晶圆和5n艺的光刻机。”

“好的,董事长!”

“魏总,公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和8n程工艺的半导体生产线,到时,pa率先订购一条。”

“好的,董事长!”

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“董事长,经过近2年的联合攻关,研究证实,我们用去离子水等手段,保持水的洁净度和温度,使其不起气泡,用去离子水作为介质,虽然光源波长还是用原来的193n但通过去离子水的折射,能使进入光阻的波长明显缩小,使用浸没式技术突破193n长可行,我们如今遇到的最大难题是我们自己制造的光学镜头不能满足突破193n长光刻光学器件的技术要求。”

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