第五十一章 追光行动(1)(3 / 4)

重燃2003 长卿还成都 296 字 4个月前

那份从容不迫,那份自信满满,还有那份敢于在众多前辈面前展示自我的勇气,都让她感到了一种深深的吸引。

她轻轻咬了咬自己的嘴唇,心中不禁有些自嘲。

好吧,此刻的小屁孩,真的非常帅气。

小奶狗一般!

比偶像剧里的长腿欧巴还帅!

然而,萧雅很快就收敛了心神,她知道自己此刻的角色,她需要保持专业,她来这里是为了支持卿云的,而不是……

来犯花痴的。

她深吸了一口气,将注意力重新集中在了会议的内容上,准备随时提供帮助。

但内心深处,却已经为卿云刚才的表现暗暗打上了满分。

云帝在会议室前面继续说着,“这就要求芯片内部制造得越来越精细,如今先进工艺制程的两个起点之间只能有纳米级别的距离了。

如此精细的产品,便需要用放大的思想来制造。

传统的放大方法——杠杆等机械结构无法满足纳米级精度的雕刻。

因此人们想到了用光来放大,原理类似我们常见的投影机。光刻机的核心就是将光通过一个可以放大的透光的模子,照射到硅片上,从而印出想要的形状,也就是芯片的内部结构……”

“光刻技术对光源有着极为苛刻的要求。这就涉及到第二个原理——瑞利判据。

想要制造出更小的尺寸,就需要能分辨更小的尺寸。

瑞利判据中,λ为光源波长、ΝΑ为数值孔径、k为光刻工艺系数,三者共同决定投影式光刻机分辨率CD……”

卿云一点一点的回顾着历史,这次依然是站在一根时间轴上同时对华国和世界进行着对比。

“根据公式可以看出,光刻机的分辨率与光源波长成正比,想要制造出更小的尺寸,就需要缩短光源的波长,这也是光刻机世代演变的核心。

到今天,光刻机历经四代,从g-line436nm起步,卡在了第四代Arf193nm上十余年无法寸进。

而我们在徐老爷子的带领下攻克了前两代光刻机,华国微电子去年也开始启动了第四代Arf193nm的研究……”

说到这里,卿云耸了耸肩膀,“其实,我们不慢,但是我们的对手更快。”

徐端颐闻言也是苦笑连连。

他现在也懂了,为什么当年他研发出了追平世界先进水平的光刻机,却得不到后续迭代的机会。

两个原因。

第一,他们是在做科研,以造出来结题为核心。

第二,国际同行直接用商业思维击败了他们。

但是,这其实是一个本质:科研与市场脱节。

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